高真空电子束蒸发镀膜设备是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。
高真空电子束蒸发镀膜设备
产品介绍
主要特点
- 真空度高、抽速快、基片装卸方便。
- 配备 E 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。
- PID自动控温，成膜均匀、放气量小和温度均匀。
技术参数
| 产品型号 | HITSemi-PVD-600EB |
| 基片尺寸 | 4"~8" |
| 电子束蒸发源 | 最大功率10KW， e型电子枪 |
| 坩埚数量 | 4穴/6穴（可选配） |
| 电阻热蒸发源组件 | 1个~2个（可选配） 钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件 钨极或钨蓝热蒸发源组件 |
| 腔体材质 | 304/316（选配）不锈钢，电解抛光 |
| 真空系统 | 分子泵+机械泵 |
| 极限真空 | 5×10-5Pa |
| 恢复工作背景真空 | 大气至7×10-4Pa，30分钟左右（新设备充干燥氮气） |
| 设备总体漏放率 | 关机12小时真空度≤8Pa |
| 工艺电源 | 电子枪电源、直流蒸发电源 |
| 基片台 | 基片台可加热600℃、可旋转2~30转/分钟、可升降、可水冷（选配） |
| 膜厚均匀性 | 优于±5% |
| 控制形式 | 半自动/全自动 |
| 工艺气体 | 3路（N2、Ar、O2）（可选配） |
| 等离子清洗源 | 可选配 |
| 膜厚监控 | 可选配 |
| 恒温制冷水箱 | 可选配 |
| 空气压缩机 | 可选配 |
设备工作条件
| 供电 | 三相五线制，AC 380V，50Hz；接地电阻≤1Ω |
| 功率 | 根据设备规模配置，峰值功率（20KW~30KW） |
| 冷却水 | ≤100L/min |
| 水压 | 0.1Mpa~0.15MPa |
| 水温 | 18℃～25℃ |
| 气动部件供气压力 | 0.5MPa～0.7MPa |
| 质量流量控制器供气压力 | 0.05MPa～0.2MPa |
| 工作环境温度 | 10℃～40℃ |
| 工作环境湿度 | ≤50% |
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