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小型等离子清洗机(电容式)

产品介绍

利用电场的能量来激发和维持等离子体。在平行电极板上施加高频的交流电压。强大的交变电场使反应气体中的自由电子加速,这些高能电子与气体分子发生碰撞,使其电离、分解,从而形成等离子体。

离子定向性强,能量高,对于去除顽固的污染物(如油脂、指纹)和进行表面蚀刻、粗化效果非常好。适用于平面基片的清洗。

等离子清洗机设备图
主要特点
  • 小型化,方便实验室操作和使用,大幅降低实验成本。
  • 物理溅射能力强。适合处理顽固污染物。
技术参数
产品型号 HITSemi-Plasma-C1
等离子源功率 300W(60%~100%连续可调)
等离子源频率 40KHz/13.56MHz
控制形式 半自动/全自动
清洗时间 1s ~9999s 可调
真空度 <80Pa
真空泵 抽气速率:2L/S(油雾过滤)
内腔(圆形) 尺寸:φ150mm × 280mm
材质:316不锈钢
有效处理空间 130mm × 245mm
处理温度 <60°
极板布局 平行电极板:功率极板(1)+不锈钢托盘(1)
工艺气体 2路(N2、Ar、O2、H2选配)
控制系统 PLC+触摸屏
设备工作条件
供电 AC 220V(±10V)50/60Hz
功率 1.5KW
工作环境温度 10℃~40℃
工作环境湿度 ≤50%
新闻资讯
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