小型单管 LPCVD（低压化学气相沉积）设备在低压高温条件下，通过化学反应气相沉积的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是 Si₃N₄、SiO₂ 及 Poly 硅薄膜）。该设备广泛用于科学研究、实践教学以及小型器件制造。
小型单管LPCVD 低压化学气相沉积设备
产品介绍
主要特点
- 小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本。
- 设备为水平卧式结构。
- 反应室由高纯石英制成，耐腐蚀、抗污染、漏率小、适合于高温使用。
- 设备电控部分采用了先进的检测和控制系统，量值准确，性能稳定、可靠。
- 系统提供自动控制无扬尘装置。
技术参数
| 产品型号 | HITSemi-LPCVD-150 |
| 基片类型 | 不规则形状的散片、φ2～φ4英寸标准基片 |
| 基片装载数量 | 标准基片：1片～2片；不规则尺寸散片：若干 |
| 基片放置方式 | 配置三种基片托架：竖直、水平卧式、带倾角 |
| 真空系统 | 机械泵、干泵（可选配） |
| 炉管 | 石英管ø150mm，长度1200mm |
| 恒温区长度 | 300mm |
| 最高温度 | 1100℃ |
| 升温速率 | 0～50℃/min |
| 恒温区控温精度 | ≤±1℃ |
| 工作压强范围 | 13Pa～1330Pa |
| 压力控制 | 闭环充气式控制 |
| 膜层均匀性 | 优于±5％ |
| 装片方式 | 手动进出样品 |
| 工艺气体 | SiH4 、NH3、N2O、N2 |
| 恒温制冷水箱 | 可选配 |
| 空气压缩机 | 可选配 |
| 注：不含尾气处理系统 | |
设备工作条件
| 供电 | 三相五线制，AC 380V，50Hz；接地电阻≤1Ω |
| 功率 | 根据设备规模配置，峰值功率（20KW~30KW） |
| 冷却水 | ≤100L/min |
| 水压 | 0.1Mpa~0.15MPa |
| 水温 | 18℃～25℃ |
| 气动部件供气压力 | 0.5MPa～0.7MPa |
| 质量流量控制器供气压力 | 0.05MPa～0.2MPa |
| 工作环境温度 | 10℃～40℃ |
| 工作环境湿度 | ≤50% |
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