利用磁场的能量来激发和维持等离子体。将一组线圈(通常是平面线圈或螺旋线圈)绕在或置于反应腔室周围(或顶部),并施加高频交流电。交变电流在线圈中产生一个强大的交变磁场,这个变化的磁场根据法拉第电磁感应定律,在反应腔内感应出强大的涡旋电场。感应出的涡旋电场使电子加速,最终激发气体产生等离子体。
高密度的活性自由基使其在化学清洗方面效率极高。可清洗三维立体工件和异形工件。非常适合处理对离子轰击敏感的材料和器件,如半导体芯片、微电子机械系统(MEMS)、高级封装等。
利用磁场的能量来激发和维持等离子体。将一组线圈(通常是平面线圈或螺旋线圈)绕在或置于反应腔室周围(或顶部),并施加高频交流电。交变电流在线圈中产生一个强大的交变磁场,这个变化的磁场根据法拉第电磁感应定律,在反应腔内感应出强大的涡旋电场。感应出的涡旋电场使电子加速,最终激发气体产生等离子体。
高密度的活性自由基使其在化学清洗方面效率极高。可清洗三维立体工件和异形工件。非常适合处理对离子轰击敏感的材料和器件,如半导体芯片、微电子机械系统(MEMS)、高级封装等。
| 产品型号 | HITSemi-Plasma-C2 |
| 离子源功率 | 0~200W功率可调 |
| 离子源频率 | 13.56MHz |
| 控制形式 | 半自动/全自动 |
| 清洗时间 | 1s~9999s 可调 |
| 真空度 | <80Pa |
| 真空泵 | 抽气速率:4L/S(油雾过滤) |
| 内腔(圆形) | 尺寸:φ160mm × 210mm 材质:石英玻璃 |
| 载物托盘 | 玻璃托盘,平行放置 |
| 工艺气体 | 2路(N2、Ar、O2、H2选配) |
| 控制系统 | PLC+触摸屏 |
| 供电 | AC 220V(±10V)50/60Hz |
| 功率 | 1.5KW |
| 工作环境温度 | 10℃~40℃ |
| 工作环境湿度 | ≤50% |
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