【拟建】珠海市龙图光罩科技有限公司40nm-28nm半导体掩模版生产线项目
2026-03-23
国内首张第8.5代高精度掩模基板正式下线,由普照材料自主研发
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三星 4 纳米产线启动本土 EUV 掩模坯料测试,加速去日本化
龙图光罩拟竞价发行募资14.6亿元,剑指国内半导体产业链空白点
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