三星 4 纳米产线启动本土 EUV 掩模坯料测试，加速去日本化

三星电子已开始在其 4 纳米代工生产线中测试韩国国产的 EUV 掩模坯料（Blank Mask）。此举旨在减少对日本供应商的依赖，并加强对关键芯片制造材料的掌控。

这些由 S&S Tech 提供的掩模坯料首次进入实际生产环境进行评估，标志着其已从早期的研发和单项工艺测试阶段迈向新高度。据《The Elec》报道，三星正在对 3 月份交付的样品进行验证，并根据 4 纳米制造流程产生的工艺级数据向供应商提供改进反馈。

这一动向意义重大： 4 纳米是三星目前客户数量最多、应用最广泛的先进工艺节点。每颗芯片需要 65-70 张光罩，其中包括 16-17 层 EUV 涂层。即便只是实现部分材料的本土化替代，在战略上也极具分量。

为什么 4 纳米节点至关重要

行业人士透露，这些本土生产的掩模坯料目前被应用于 4 纳米流程中要求较低的 EUV 步骤，这反映了三星采取的是分阶段验证策略。即便如此，从实验室测试转向产线实际应用，标志着本土化进程的显著升级，也释放了更强烈的本土化信号。

长期以来，三星一直依赖日本 豪雅（Hoya Corporation） 和 朝日硝子（Asahi Glass） 的进口产品。然而，包括日本地震在内的供应链中断风险，暴露了这种高价值、单一来源材料在供应上的脆弱性。

三星一直在推动供应商多元化。据韩国媒体《ETNews》报道，早期的评估已进入最终认证阶段，有望在第二季度被采纳。这意味着当前的 4 纳米测试是其整体部署计划的一部分，而非孤立的试验。

成本高昂且极难制造的材料

掩模坯料是制造掩膜板的基础基板。在制造过程中，掩膜板负责将电路图形刻印到晶圆上。

EUV 掩模坯料比 DUV 版本复杂得多：不同于透射式的 DUV 掩模，EUV 掩模是反射式的，由大约 40 层钼和硅交替堆叠而成。同时，极紫外线（EUV）的短波长特性使得即使是微小的缺陷也是致命的，这对制造和检测提出了极高的要求。

这种复杂性导致其价格居高不下。单片售价达数千万韩元，高端型号甚至超过 1 亿韩元（约 7.4 万美元）。实现本土采购将缩短交付周期，每年有望节省数百亿韩元的成本。

S&S Tech 的追赶之路

为了缩小与老牌巨头的差距，S&S Tech 扩大了产能和检测能力。该公司向 Lasertec Corporation 投资了 400 多亿韩元购买缺陷检测设备，这些系统已安装在去年 10 月竣工的龙仁工厂。

此外，该公司还在龙仁开设了专门的 EUV 中心，并根据三星产线的反馈，致力于抑制颗粒（Particle）的产生。认证过程依然漫长，预计从获得批量生产订单到正式应用可能需要半年到一年的时间。

供应链与市场影响

如果通过认证，这将是三星首次在生产中使用国产 EUV 掩模坯料，不仅能增强其议价能力，还能提升本土供应链的韧性。

虽然初始部署规模预计有限，但后续的大规模推广将取决于良率和可靠性。随着订单量增加，S&S Tech 可能会进一步扩充产能。

此举正值 EUV 需求上升之际。全球掩模坯料市场预计将从 3 亿美元增长到 2035 年的 13 亿美元，年复合增长率（CAGR）达 16.5%。

短期内的测试重点非常明确，即本土供应商能否在 4 纳米生产环境中达到缺陷控制、精度和一致性的阈值。一旦得到证实，这种技术门槛极高的关键材料将开始从依赖进口转向本土供应。

---

原文：Samsung tests domestic EUV masks to cut Japan reliance at 4nm