NMC 612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机

NMC 612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机是应用于40-28nm制程集成电路的金属干法刻蚀设备，用于氮化钛金属硬掩膜、高K值介质刻蚀、钨/钛/钽等金属及其化合物刻蚀等工艺。

设备特点

• 先进的线宽、形貌、均匀性控制能力
• 多区温控静电吸附卡盘提高晶圆温度控制能力
• 高产能，工艺稳定，低缺陷
• 脉冲等离子体射频技术可以减少等离子体诱导损伤

产品应用

• 晶圆尺寸：12英寸
• 适用材料：金属
• 适用工艺：TiN HM刻蚀、高K值介质刻蚀、W/Ti/Ta等金属及其化合物刻蚀
• 适用领域：集成电路