NMC 612G是电感耦合高密度等离子体干法刻蚀机,主要用于集成电路、功率半导体、硅基微型显示领域。NMC 612G为多腔室集群设备(Cluster Tool),它是一个全自动化的,能够进行串行或并行工艺处理的刻蚀系统。 本设备包含工艺模块和传输模块,可从12英寸硅片传输盒(FOUP)中连续自动取片并在所指定的工艺腔室里完成所设定的工艺。
设备特点
- 可用于铝、硅,氧化物、钼、氧化铟锡等多种材料刻蚀
- 高性能静电卡盘,可用于硅晶圆及玻璃片稳定吸附
- 设备提供多种均匀性调节手段
- 定制化软件配置
产品应用
- 晶圆尺寸:12英寸
- 适用材料:铝、硅、氧化物、钼、氧化铟锡
- 适用工艺:多晶硅刻蚀、介质刻蚀、Al/Mo/ITO等金属刻蚀
- 适用领域:集成电路、功率半导体、硅基微型显示