标的名称：微纳米图形曝光转移加工测试服务
数量/单位：不限
预算金额（元）：1300000.00

采购目录：C19010000技术测试和分析服务

一、需实现的主要功能或者目标：主要用于样品的微纳图形曝光转移及相关加工测试。服务内容主要包括净化实验室环境使用、光刻/电子束曝光等相关设备使用、样品对准、显影、图形转移相关工艺条件支持、曝光剂量及显影条件调试支持、版图图形加工验证记录及必要技术支持等。项目组提供待加工样品、版图文件或掩膜版信息、目标图形尺寸及加工要求，服务方提供平台环境、设备使用条件、上机培训和操作指导。

二、质量要求：1.从采购内容中提取了精度指标：曝光图形尺寸精度、对准精度（纳米级）、显影条件调试、加工验证记录可追溯。

三、服务要求：1.时效性： 收到样品后需在约定时间（如5-7个工作日）内完成测试并反馈结果。2.技术支持： 提供实验前的技术咨询，协助制定最佳制样与测试方案。3.样品管理： 建立严格的样品流转记录，确保珍贵样品不丢失、不混淆；测试后剩余样品按需归还或销毁。4.售后保障： 如对结果有疑问，需提供免费复检或详细的技术解释服务。

四、安全要求：1.保密义务： 供应商需对样品的结构信息、实验数据及项目组的研究内容严格保密，未经授权不得向第三方泄露或用于发表论文。2.操作规范： 严格遵守实验室安全操作规程，防止因操作不当导致样品损坏或设备污染。3.环境安全： 制样及测试过程需符合环保要求，产生的废弃物需合规处理。

五、时间要求：自合同签订之日起至2027年5月31日，在此期间根据实验进度分批送样测试。