NTT-AT与EVG验证高折射率树脂与SmartNIL工艺兼容性，AR光波导量产路径打通

日本NTT先进技术公司（NTT-AT）与奥地利纳米压印设备商EV Group（EVG）于9月8日联合宣布，已验证NTT-AT的UV固化高折射率树脂与EVG专有SmartNIL®工艺技术的兼容性，并完成了AR光学器件用光波导制造可行性的评估。评估结果确认了量产应用所需的高图案保真度、连续转印性能和耐环境性，表明NH700系列高折射率树脂与SmartNIL®工艺的组合对AR光学器件量产有效。

技术验证结果

本次联合评估采用NTT-AT NH700系列中的NH762材料，验证了其与EVG SmartNIL®技术及EVG® NIL UV/AS5工作模具材料的兼容性。

评估确认的关键结果包括：

• 350纳米线宽/间距结构的高精度复制
• 45°倾斜光栅及最小特征尺寸65纳米的超构光学元件无缺陷、无变形成功复制
• 使用EVG NIL UV/AS5进行连续25次压印测试，压印图案高度变化仅约2.2%，确认了量产所需的重要尺寸稳定性和脱模性能
• 湿热和光照测试后，压印图案结构变化极小，确认了AR光学器件所需的高耐环境性

NH762兼具高折射率、高透明度和耐环境性，被证实作为AR波导材料具有较高的实用潜力。NH700系列固化膜折射率可达1.8至1.9，固化膜厚度典型为300纳米。

客户价值与后续计划

AR光学器件的开发通常需要大量时间用于材料评估、可靠性测试和制造兼容性验证。通过此次合作，NTT-AT和EVG可向客户提供经过预先验证的纳米压印材料与工艺组合方案，有望显著缩短AR光学器件制造商在材料选择和早期工艺开发上的时间，加速向量产过渡。

两家公司计划继续评估NH700系列其他材料在同一纳米压印设备上的转印性能，应用方向不仅限于AR光学器件，还涵盖下一代超构光学元件、激光雷达和传感设备。

来源：编译自NTT-AT官方新闻稿