普雨科技首台ImprioVerse纳米压印设备完成出货

近日，普雨科技（苏州）有限公司（以下简称“普雨科技”）迎来重要里程碑。公司自主研发的ImprioVerse纳米压印光刻首台套产品已正式交付客户，进入量产验证阶段。该设备将应用于化合物半导体光电子外延片领域的量产制造，覆盖光通信、激光传感、激光加工等微纳光电子器件的核心制程环节。

01）什么是纳米压印？

纳米压印光刻（NanoimprintLithography,NIL）与大家熟知的传统光刻原理截然不同——它不依赖光学投影，而是像“盖章”一样，通过机械力将模板上的纳米级图案直接压印到涂有压印胶的晶圆表面，再经过固化实现图形复制。

02）ImprioVerse技术亮点

ImprioVerse是普雨科技针对纳米级结构的量产型压印设备，在保证成膜均匀性与图形精度的同时，有效延长了模板使用寿命。

①多尺寸兼容：兼容2、3、4寸晶圆，支持硅、磷化铟、砷化镓等多种衬底材料。

②硬质模板整片压印技术：采用硬质模板整片压印方案，开发了精确的模板及晶圆形变控制系统，在保证成膜均匀性与图形精度的同时，有效延长了模板使用寿命。

③智能化喷胶平台：压印胶采用喷涂方式，省去了传统工艺中的旋涂及烘胶环节，大幅缩短了工艺流程。喷胶图形及像素密度可编辑，为工艺提供更大的自由度，可实现均匀的残胶厚度并最大限度地降低缺陷率。

④高精度运动控制：闭环控制的运动平台、压印平台及精密的套刻系统。

03）应用场景与市场价值

ImprioVerse可广泛应用于多个微纳制造领域，面向光芯片、MEMS芯片、先进封装及衍射光学器件等高端场景，具体涵盖衬底图形化、光波导阵列、衍射光学元件（DOE）、微透镜阵列等产品的研发和量产。

从市场前景看，纳米压印光刻技术正成为光芯片、先进封装、MEMS芯片、存储芯片等成本敏感赛道的主要替代方案。目前，国际半导体设备巨头已推动纳米压印技术实现商业化突破，相关设备已导入海力士、铠侠等全球存储巨头。普雨科技凭借ImprioVerse的差异化技术路线，有望在国产替代浪潮中抢占先机，为国内客户提供兼具性能与成本优势的成熟方案。

04）国产替代的战略意义

普雨科技的快速成长，为国产高端半导体设备突围开辟了差异化新赛道。公司成立于2024年7月，成立仅一年多即完成三轮融资，累计融资额达数亿元。股东阵容汇聚蓝驰创投、元禾原点、元禾控股、上海科创、启赋资本等知名财务投资机构，形成了“财务+产业+政府”多方协同赋能的强大支撑。公司创始团队深耕纳米压印与半导体设备领域多年，核心成员均来自国内外知名半导体设备企业，在高精度套刻、光刻精度、良率管控等关键技术领域拥有长期技术积累与量产落地经验。公司已组建覆盖软硬件开发、精密工艺、机械设计、供应链管理及客户端交付的全链条精英团队，形成了从前沿技术研发到产业化落地的完整能力闭环。目前已申请多项核心专利，涵盖设备控制等关键领域，技术壁垒持续提升。

文章来源：普雨科技公众号