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高性能大 FoV 衍射光波导技术进展

2026-03-30
高性能大 FoV 衍射光波导技术进展

Xin Cheng Huiying Wu Rudong Wei Jing Qian Kehan Tian

GoerOptics Technology(歌尔光学)· 山东省潍坊市浞河路3999号, 261061

摘要

在过去的五年中,衍射波导(WG)技术取得了重大进展,尤其是表面浮雕光栅(SRG)。小视场角(FOV <30°)的波导技术目前已趋于成熟,满足了轻量化智能眼镜的成像要求,促使主要厂商实现了基于衍射架构 AR 设备的商业化。在更高沉浸感需求的驱动下,50°-70° 的大 FoV 成为波导研发的重点目标。
在单片波导中实现大 FoV 需要与小 FoV 设计截然不同的方法。关键在于,高折射率(High RI)衬底必须采用刻蚀(etching)工艺而非纳米压印(NIL)。虽然高 RI 衬底已大幅减轻了彩虹伪像(rainbow artifact),但仍有重大挑战阻碍商业化。最关键的未解决问题包括:鬼像(ghosting images)、有限的光学效率和低透过率。解决这些相互关联的问题对于实现可行的高性能大 FoV 波导至关重要。本研究将系统性地探讨高性能大 FoV 波导技术中的挑战与机遇。

large FoV SRG ghosting image optical efficiency transmittance rainbow

1. 引言(INTRODUCTION)

过去五年,增强现实(AR)行业的飞速发展伴随着衍射波导(WG)技术的重大进步。小 FoV 角度(<30°)的波导方案已达到技术成熟度,并满足了轻便智能眼镜的核心光学要求。

受市场对增强沉浸式体验需求的驱动,波导研发持续推进,主要焦点是将 FoV 扩大到 50°-70°。在单片波导中应对大 FoV 的技术需求需要不同的路径,包括使用更高折射率(RI)的衬底,这使得刻蚀工艺取代了纳米压印(NIL)。其他新颖的技术挑战包括鬼像、有限的光学效率和低透过率。本文深入研究了大 FoV SRG 波导的挑战与机遇,并介绍了 GoerOptics(歌尔光学)的解决方案。

2. AR 光学的挑战(CHALLENGES IN AR OPTICS)

AR optics | AR 光学

AR 光学的主要技术挑战集中在光机(LE)、波导(WG)和 AR 模组。光机的发展趋向于全彩显示、更高空间分辨率和极致小型化。波导研究侧重于提高亮度、改善均匀性、抑制彩虹伪像、减少漏光、降低反射率和减重。在系统层面,AR 模组正朝着像素级 de-mura(亮度均匀性校正)、集成处方镜片方案和优化工业设计方向发展。

WG Technologies | 波导技术

波导技术通常分为反射式衍射式。反射式波导包括几何光波导(LOE)和基于针孔的设计;衍射式波导则包括衍射光学元件(DOE)全息光学元件(HOE)类型。本研究重点关注 SRGs,这是一种基于 DOE 的波导。

Human Vision and FoV | 人眼视觉与 FoV

在双目视觉中,中央 25° 区域支持高敏锐度任务,而外围视觉则有助于平衡感、存在感和视觉搜索。因此,小 FoV(<30°)的智能眼镜适用于高敏锐度应用,而更大的 FoV 对于沉浸式体验是必需的。

3. 大 FoV 波导的挑战(CHALLENGES IN LARGE FOV WG)

大 FoV 给波导的架构、材料、工艺和光学性能带来了独特挑战。

Architecture | 架构

图 1:视场 vs. 基板折射率

增加 FoV 的一种方法是堆叠多层波导片以支持更宽的光谱。如图 1 所示,在相同衬底折射率(RI)下,双片波导比单片设计增加约 25° 的 FoV。虽然这种架构已在早期的 AR 系统(如 Magic Leap 1 和 2)中应用,但它显著增加了重量和厚度,使其在消费级 AR 眼镜中的青睐度较低。

Substrates | 衬底(基底)

实现单片大 FoV 波导需要高 RI 衬底。表 1 列出了 SRG 波导候选衬底的折射率和最大 FoV。如第 2 图中的 k-space(k 空间)图所示,低 RI 衬底受限的全反射(TIR)带宽限制了 FoV,而高 RI 衬底能实现显著更大的 FoV。然而,高 RI 材料并非简单的替代品,它们在加工制造和光学性能方面带来了巨大挑战。

表 1:不同基板的折射率与视场

SubstrateRIMax. FoV
Polymer1.5~1.75~22
Glass1.9~2.0~30
LiNbO32.3~50
SiC2.6570
图 2:(从左至右):(1) 聚合物基板、(2) 玻璃基板、(3) 铌酸锂基板 和 (4) 碳化硅基板 下的视场图

Processes | 工艺

高折射率(High RI)衬底对于大 FoV 波导(WG)至关重要,但由于缺乏合适的高 RI 纳米压印(nanoimprint)材料,必须采用直接刻蚀工艺。虽然电感耦合等离子体(ICP)刻蚀二元光栅(binary gratings)有效,但更复杂的结构(如倾斜光栅,slanted gratings)则需要反应离子束刻蚀(RIBE),因为它能精确控制侧壁角度和深度。然而,RIBE 在工业实践中相对不成熟,面临着产出量(throughput)和晶圆内均匀性(within-wafer uniformity)的挑战。GoerOptics(歌尔光学)已建立了制造倾斜光栅的能力(如图 3 所示),并持续研究以进一步提升 RIBE 设备集和工艺,从而满足大 FoV AR 光学的严苛要求。

图 3:(左):反应离子束刻蚀制备的倾斜结构,(中、右):GoerOptics 研制的不同尺寸倾斜光栅

除了工艺之外,大 FoV 波导在光学性能方面也面临主要挑战,如下所示:

Ghost Image | 鬼像

当来自波导的反射光进入光机(LE)时,会产生如图 6(左)所示的鬼像。在小 FoV 架构中这种情况并不严重,但在大 FoV 中则成为一个问题,因为反射光进入 LE 的几率更高(见图 4)。为了解决这一问题,必须显著减少反射光。

一种方法是引入精心设计的倾斜结构(slanted structures),它能将能量更多地引向理想方向,并减少流向 LE 的反射能量。图 4(右)显示了当入耦合光栅(in-coupler gratings)从二元结构变为倾斜结构时,反射率显著下降。

图 4:(左)反射光进入光引擎,产生重影;(中)倾斜光栅减少进入光引擎的反射光;(右)二元结构与倾斜结构的反射率(R₀)对比

另一种方法是修整(trim)部分反射区域,但这种方法会导致入耦合效率(in-coupling efficiency)下降(见图 5),因此需要谨慎平衡反射与效率之间的权衡(tradeoff)。通过上述方法及进一步优化,我们已成功消除了鬼像,如图 6 所示。

图 5:修整面积对光栅效率与反射率的影响
图 6:(左)处理前的重影,(右)处理后的重影

Efficiency | 效率

大 FoV 架构在光学效率方面面临着更高的挑战,而这通常是光学性能中最关键的参数。如图 7 所示,可以通过引入更复杂的结构来提高效率。

二元光栅(Binary gratings)最易于制造;然而,它们无法高效地引导光线,且不可避免地存在漏光(leakage)问题。倾斜光栅(Slanted)闪耀光栅(Blazed)、阶梯光栅(Stair-cased)以及超构光栅(Meta gratings)可被用于打破对称性并提高效率。

  • 其中,倾斜光栅在效率和反射率之间提供了良好的平衡;
  • 闪耀光栅和阶梯光栅提供了极高的效率,但可能需要其他措施来降低反射率;
  • 超构光栅通过相位调节(phase adjustment)实现效率提升,它提供了最多的调控手段(knobs),同时也面临着最大的制造挑战。
图 7:(从左至右):二元光栅、闪耀光栅、倾斜光栅、阶梯光栅和超构光栅。

Reflectivity | 反射率

AR 眼镜对透视(see-through)特性也有着严苛的要求,这需要波导(WG)具有低反射率。目前已探索了多种降低反射率的方法,包括应用多层精心设计的薄膜电堆(film stacks),以及应用有效折射率(effective RI)与波导电堆匹配的亚波长光栅(sub-wavelength gratings)。我们成功地将 SiC(碳化硅)波导的反射率从 35~40% 降低到了 <5%(如图 8 所示)。

图 8:低反射率 SiC 波导

Rainbow | 彩虹(彩虹伪像)

彩虹是一种光学伪像,主要由大入射角的环境光在非预定位置和角度发生出耦合(out-coupled)引起。在高折射率(High RI)波导中,彩虹问题比低 RI 波导更易解决,因为前者对入射角具有更大的容许角/接收角(acceptance angle),如图 9 所示。

图 9:LiNbO₃ 与 SiC 的彩虹图分析

4. 歌尔光学 SRG 波导产品组合

通过持续的技术开发,GoerOptics(歌尔光学)已确立了其在 XR 光学解决方案领域的先驱地位。作为该领域最早的进入者之一,公司建立了涵盖光学设计、工艺开发、光学测试和制造的全面能力。图 9 展示了歌尔光学 SRG 波导的产品组合,涵盖了广泛的 FoV(视场角)范围,并在效率和色彩均匀性方面表现出卓越性能。

SPIE AR|VR|MR 2026 大会上,歌尔光学将揭晓其具有无感彩虹(invisible rainbow)效果的 50° FoV SiC(碳化硅)波导。该产品目前被公认为行业内能实现无缝 AR 体验的大 FoV 波导之一。它展示了在光学性能与可制造性之间取得平衡、通往沉浸式 AR 显示的切实路径。这一技术成就体现了公司在波导开发领域的专业实力。

图 10:GoerOptics 波导产品组合及性能表现

5. 挑战与机遇

尽管取得了这些进展,用于沉浸式 AR 应用的大 FoV 波导开发仍面临重大挑战。全行业需要持续创新的领域包括光学性能、成本和重量,这些既代表了挑战,也代表了未来设备的机遇。

参考文献

  1. Bernard Kress, EDO10, SPIE https://doi.org/10.1117/12.2544404
  2. https://kguttag.com/2019/10/07/fov-obsession/
  3. B. Wheelwright, et.al., Proc. Of SPIE, VoL 10676, 106704-1, https://doi.org/10.1117/12.2307303

著录信息

  1. Xin Cheng, Huiying Wu, Rudong Wei, Jing Qian, and Kehan Tian "Progress in high-performance large-FoV diffractive optical waveguide technology", Proc. SPIE 13821, Optical Architectures for Displays and Sensing in Augmented, Virtual, and Mixed Reality (AR, VR, MR) VII, 138210B (5 March 2026); https://doi.org/10.1117/12.3080664

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