为推动微纳制造技术应用及产业化，表彰先进，树立榜样，深圳市微纳制造产业促进会与苏州纳米城联合开展“微纳制造技术产业化优秀案例评选”活动，并对优秀案例进行表彰。
奖项评选标准
1. 技术应用典型案例奖：采用/通过微纳技术实现某领域/产品的产业化应用的企业。
2. 工艺先锋奖：创新微纳技术新材料、新工艺，并实现产品化、商业化的企业。
3. 领航企业奖：在微纳技术产业化方面发挥了引领作用的企业，包括实现国产替代、促进产业协作等。
4. 技术战略领先奖：在国际合作、收并购、知识产权战略等方面具有示范动作和成效的企业。
电子束曝光机产品由金竟科技联合国内相关优势机构自主研发，其功能配置、核心技术指标均比肩国际一流产品，填补了我国电子束曝光机商业化整机设备的空白。产品已经进入小批量生产阶段，帮助解决了多个重量级用户的亟需，已经小批量交付用户使用，为我国量子科技、纳米科技、半导体微电子、集成电路等前沿科技领域提供 "根技术" 支撑保障，实现了利用国产科学仪器解决重大基础科学问题，助力重大技术与工程的攻坚克难。
炬光科技晶圆级透镜堆叠(WLS)技术运用半导体工艺，可在整片玻璃晶圆上批量复制生产透镜，再将多个透镜晶圆压合，最终切割成单个微型光学成像镜头。其优势在于：1. 可高效实现微纳光学元器件与模组的小型化、高精度，易于扩展的大批量生产制造；2. 能够实现光学晶圆的微米级精确堆叠，可集成光圈、镀膜、光谱滤波器等附加功能；3. 可提供适合CSP传感器的可回流解决方案，确保光学产品的稳定与高效。
针对传统高折射率玻璃波导应用在AR显示领域中体积大、重量重、光效低、彩虹纹等痛点，慕德微纳创新采用4H-SiC晶圆与纳米压印工艺，制备262nm周期光栅，结合超薄封装（硬涂层+增透膜），开发了极轻（2.7g/镜片）、极薄（0.55mm）、无彩虹纹、单片全彩SiC波导AR显示系统，实现AR波导从多层结构向单层超薄结构的跨越，显著降低设备重量和厚度。该技术旨在推动AR在消费电子、工业制造、军事及医疗领域的应用升级。
传统的体半导体材料在减薄后表现出严重的表面散射效应和量子效应，导致器件性能急剧下降。碳纳米管具有高载流子迁移率、弹道输运、大电流承载能力和热导率等特性，且为一维纳米材料，本征厚度小，可有效克服短沟道效应，比硅基半导体具有10倍以上性能优势。
新维度利用高精度纳米压印技术的加工工艺，可实现金属线栅偏振片批量化、低成本、高精度高稳定性的产业化制造，制备的产品拥有极限的线宽尺寸、高消光比，高透过率，卓越的偏振性，满足高性能需求。可广泛应用于光通信、显示技术、AR/VR等领域。
一款集成EFEM、Plasma、Spin coater、Hot plate、Chill plate、NIL、Frame loading Unit的全自动纳米压印生产线，达到了国际一流水准，积极推动纳米压印产业化进程，目前已进入小批量生产阶段。
公司开发的消费级MEMS高精度陀螺仪，突破了惯性测试单元设计和量产技术，提升传感器后端封装、测试工艺水平，实现MEMS裸芯片与信号调理电路(ASIC)自主研发、世界先进的
全自动紫外光刻设备和技术解决方案，为微纳制造提供高精度、高效率的加工能力。
龙口科诺尔玻璃科技有限公司首创并突破了超大尺寸纳米压印工艺在玻璃基材上的应用，成功推出的"微纳压印家电彩晶玻璃"不仅满足了市场对高品质家电彩晶玻璃的需求，在环保和可持续发展方面也作出了显著贡献。
苏州普希环保科技是一家由国家级海外高层次人才领衔的海外归国博士团队创立的国家高新技术膜企，专注于第三代纳米复合薄膜型(TFN)高端反渗透、纳滤及物料分离膜的研发与产业化，是第三代纳米复合薄膜TFN国内唯一的制造商。普希产品已经在石油石化、新能源、半导体、渗滤液、合成生物学、海水淡化、工业废水及再生水等十多个行业有了实际应用案例，其中多数是大型央企和上市公司，有10%是世界500强企业，且在石油炼化、锂电池原材料等细分领域已导入行业头部客户并获得良好的口碑和持续的复购。
纳米银线是长径比1000倍的均匀细长银纳米丝。由于银优良的光电特性，使其成为替代ITO透明导电薄膜材料的最佳选择。纳美达独有的银线黄光蚀刻工艺，大幅提升银线薄膜的光学外观。纳美达已完成材料研发和全产业链落地，目前是纳米银线领域中小尺寸触显产品唯一实现大规模出货的企业。
天仁微纳公司专注于纳米压印技术，致力于拓展纳米压印技术在创新产品领域的应用，研发了多款高精度紫外纳米压印设备，适用于DOE、AR/VR衍射光波导、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域。作为国内该领域唯一一家能与国际设备公司"掰手腕"的天仁微纳，凭借领先的技术、完善的售后服务和快速的市场应对能力，打败诸多国际竞争对手，迅速占领了国内超过90%的市场份额，是纳米压印光刻设备市场的"隐形冠军"。
针对特种微透镜阵列制造需求，采用50nm精度3D光刻技术，为高校科研团队提供高精度、高自由度3D微纳制造解决方案，实现定制化特种微透镜阵列结构的加工试制。
高速高分辨率纳米压印光刻工业级设备产业化旨在运用对准控制、形变控制、姿态控制、缺陷控制四大技术，实现优于5nm的套刻精度，采用步进重复的手段实现工业化高速生产。目前，公司已完成样机研发。
使用微纳加工微流控芯片，实现生物医学指标的高灵敏多重快速检测。
面向新一代显示成像技术重大需求，聚焦微纳光场调控与显示成像核心技术，攻克了微纳结构光学设计、高精度制造与规模化应用全链条技术难题，取得多项原创性突破，实现我国在光场调控与显示成像领域的国际引领。
本案例聚焦微纳技术在喷墨打印头产业化应用，突破传统工艺精度限制，实现喷嘴特征尺寸达20μm高精度制造，实现喷墨打印头MEMS工艺最小尺寸<3um，实现更高的阻值保证打印质量，助力打破国外技术垄断，实现高端制造产业升级。
碳纳米管在新能源、半导体、高分子材料等场景中的应用，展示了其广泛的应用前景和技术价值。
博众仪器公司专注于透射电子显微镜产品研发，实现了超高稳定度高压电源、场发射电子枪等基于电子束技术的关键零部件的自主可控，攻克多项核心技术。其研发的200kV场发射透射电子显微镜Bozhon F200产品性能指标与国外同类电镜相当，已进入小批试产阶段。
魔技纳米科技深入光通信领域光子集成芯片与光纤传感等应用场景，形成了独特的工艺体系，为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案。
基于纳米与原子制造的PVD/CVD技术，用于高质量的薄膜制备。例如，用磁控溅射技术进行单晶薄膜制备，将磁控溅射用于分子束外延的束流源等。
随着光学显示技术不断演进，市场对高透过率光学元件需求激增。广纳四维聚焦该领域，推出高透过率光学产品。通过精确控制镀膜厚度以及优化微纳加工技术实现对仿生纳米纹理深度的精确控制，不仅实现99%超高光线透过率，还有效抑制有害光线的散射，确保图像的清晰度和色彩饱和度。产品可应用于智能眼镜、投影显示等领域。创新亮点在于兼顾高透过率与良好光学性能，有效提升设备成像质量与光能利用率，为光学行业发展注入新动力。
"博顿光电"，实现离子源和离子束整机装备的国产化替代，有效打破国外技术垄断，填补了国内技术空白。公司产品广泛应用于离子束溅射、离子束刻蚀、离子束辅助、离子束抛光、离子束清洗等超高精度加工处理工艺场景，可实现原子级的增材、减材、等材加工效果。目前已开拓和积累了数百家行业典型客户，在国内已成为高性能离子源市场占比最高、整机装备全国产化最彻底、工艺应用案例最全面的厂家。公司产品技术曾入选《中国智能制造十大科技进展》。
面向新一代显示成像技术重大需求，聚焦微纳光场调控与显示成像核心技术，攻克了微纳结构光学设计、高精度制造与规模化应用全链条技术难题，取得多项原创性突破，实现我国在光场调控与显示成像领域的国际引领。
炬光科技晶圆级透镜堆叠(WLS)技术运用半导体工艺，可在整片玻璃晶圆上批量复制生产透镜，再将多个透镜晶圆压合，最终切割成单个微型光学成像镜头。其优势在于：1. 可高效实现微纳光学元器件与模组的小型化、高精度，易于扩展的大批量生产制造；2. 能够实现光学晶圆的微米级精确堆叠，可集成光圈、镀膜、光谱滤波器等附加功能；3. 可提供适合CSP传感器的可回流解决方案，确保光学产品的稳定与高效。
公司开发的消费级MEMS高精度陀螺仪，突破了惯性测试单元设计和量产技术，提升传感器后端封装、测试工艺水平，实现MEMS裸芯片与信号调理电路（ASIC）自主研发、世界先进的3D硅通孔。
精密运动模组及控制技术主要研究各种行程的微纳精度运动平台模组设计，以及基于坐标位置的激光同步脉冲触发控制，结合视觉影像的实时动态位置校正，可实现多轴协同二维异形轨迹和激光触发的同步控制，适用于半导体、面板显示、新型电子及新能源等多个领域的激光精细微加工设备。
