微纳光学是指微米/纳米级光学元件设计、制造及应用的交叉学科，其核心在于通过微纳结构精确调控光场特性（如反射、衍射、相位调制等），结合光子学与微纳加工技术，推动光学器件向小型化、集成化、高性能化发展。其技术基础包括光刻、纳米压印、深刻蚀等工艺，可制造衍射光波导、光子晶体、超表面等核心器件，广泛应用于消费电子、汽车、医疗、通信、安全防伪等领域。
为推动微纳制造技术应用及产业化，表彰先进，树立榜样，深圳市微纳制造产业促进会与苏州纳米城联合开展“微纳制造技术产业化优秀案例评选”活动，向社会广泛征集技术产业化案例，并对优秀案例进行表彰推广。
近年来，随着AI技术与智能终端的深度融合，3D传感、AR器件等场景需求激增，推动微纳光学技术加速商业化。本期推介微纳光学制造的标杆案例，展现该领域的技术攻坚与产业化进程。炬光科技晶圆级透镜堆叠(WLS)技术运用半导体工艺，可在整片玻璃晶圆上批量复制生产透镜，再将多个透镜晶圆压合，最终切割成单个微型光学成像镜头。其优势在于：1. 可高效实现微纳光学元器件与模组的小型化、高精度，易于扩展的大批量生产制造；2. 能够实现光学晶圆的微米级精确堆叠，可集成光圈、镀膜、光谱滤波器等附加功能；3. 可提供适合CSP传感器的可回流解决方案，确保光学产品的稳定与高效。案例：纳米精度大面积光场光刻关键技术及显示成像应用
苏大维格面向新一代显示成像技术重大需求，聚焦微纳光场调控与显示成像核心技术，攻克了微纳结构光学设计、高精度制造与规模化应用全链条技术难题，取得多项原创性突破，实现我国在光场调控与显示成像领域的国际引领。
针对传统高折射率玻璃波导应用在AR显示领域中体积大、重量重、光效低、 彩虹纹等痛点，慕德微纳创新采用4H-SiC晶圆与纳米压印工艺，制备262nm周期光栅，结合超薄封装（硬涂层+增透膜），开发了极轻（2.7g/镜片）、极薄（0.55mm）、无彩虹纹、单片全彩SiC波导AR显示系统，实现AR波导从多层结构向单层超薄结构的跨越，显著降低设备重量和厚度。案例：DUV光刻+刻蚀工艺制备复杂多元纳米光栅结构
广纳四维创新性地采用DUV光刻+刻蚀工艺制备复杂多元纳米光栅结构，同时基于自研光学设计和材料纳米加工工艺优化，以及高精度计算设计和迭代试验，制备出了轻薄、无彩虹纹的产品，且实现了产业化。以上素材来源于案例申报企业由苏州纳米城与深圳市微纳制造产业促进会联合主办，微纳视界承办的“2025（第二届）微纳制造技术应用生态大会暨颁奖典礼”将于2025年4月28日在苏州纳米城举办。大会将围绕微纳制造技术及应用，与新一代各行各业科技创业者们，探讨微纳制造技术产业化、人工智能与微纳制造融合创新、国际技术合作路径与产业生态建设。
