针对压印后道刻蚀工艺定制开发的纳米压印材料

PL-R-UL 是一款针对压印后道刻蚀工艺定制开发的纳米压印材料，其主要功能包括，增加刻蚀选择比、举离工艺（lift-off）、双转移纳米压印工艺等压印工艺需求等。

PL-R-UL1000 Under-layer polymer

举离型传递层材料

⚫ Thermoplastic polymer for lift off process 热塑聚合物发送过程

⚫ Strong adhesion to up layer resists and substrates 强粘附抗蚀剂层以及材料

PL-R-UL2000 Under-layer polymer

刻蚀型传递层材料

⚫ Thermoset polymer for etching mask process 热固性聚合物刻蚀面罩过程

⚫ Strong adhesion to up layer resists and substrates 强粘附抗蚀剂层以及材料