热塑型纳米压印胶

PL-R-T系列是一款热固化纳米压印材料，通过加热至材料玻璃转化温度后经冷却至常温状态下来实现纳米模板微观结构的复制及转移，广泛应用于光学、新能源、生物传感等应用。

热塑型纳米压印胶

⚫ Sub-10 nm resolution 分辨率低于 10nm

⚫ Low imprint pressure (< 20 bar) 低压力压印(< 20 bar)

⚫ Low imprint temperature (< 100 ℃) 低温压力(< 100 ℃)

PL-R-T2000 Thermal curable nanoimprint resist

热固化型纳米压印胶

⚫ Sub-10 nm resolution 分辨率低于 10nm

⚫ Low imprint pressure (< 1 bar) and Low curing temperature (< 100 ℃) 低压力压印(< 1 bar)以及低固化温度(< 100 ℃)

⚫ Short thermal curing time (< 60 s) 热固化时间短(< 60 s)

⚫ High O2 Plasma etching resistance 高氧等离子体刻蚀电阻

⚫ Uniform film thickness 均一的膜厚度