具备刻蚀掩膜功能的纳米压印胶

PL-R-PC系列是一款具备刻蚀掩膜功能的纳米压印胶，其主要性能是作为掩膜层对刻蚀衬底进行相应的保护，从而达到图案转移目的。可根据不同刻蚀气体，刻蚀衬底定制掩膜层材料。广泛应用于半导体制造、光学应用，如高端芯片、PSS / NPSS、AR光波导（镀膜+刻蚀）、金属光栅、基因芯片等。