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微纳3D打印系统 Dual系列 - microArch® Dual 1025

产品介绍

microArch R Dual 1025 系统性能

设备特点优势

复合超高精度:光学精度10μm和25μm,智能识别特征细节,自动切换层间及层内精度;

激光测距系统:便于打印平台和离型膜调平;

高精密运动控制系统:XY运动轴的重复定位精度±1μm;

气浮平台:提高系统稳定性和打印质量;

自动水平调节系统:平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统,全面提升打印效率;

侧移式绷膜框:更换平台无需拆卸绷膜框,打印前无需反复调节绷膜水平;

分体磁吸平台:一分钟快速装拆,节省作业切换时间,用户体验更友好;

供液系统:自动调节液槽内树脂量(适用树脂粘度 < 500cPs),实现精准给量;

流平参数自动化:自动设置流平时间以及滚刀运作频率;

液槽加热系统:地域适配性广,兼容更多材料加工,满足多元化的应用场景。

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