上海微进博会首秀新一代前道光刻机剖视模型：关键零部件国产化率超90%，累计流片超千万片

2026年11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在国家会展中心（上海）举行。中国光刻装备制造商上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE） 携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800（KrF） 与SSB800（I-line） 的剖视模型亮相中国馆，首次对外展示整机光路与内部机电架构。

展品形态：透明剖视，展示内部链路

本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。对于光刻机这类高度复杂的尖端装备而言，剖视模型的意义在于让外界得以一窥通常高度保密的内部结构——光的传输路径、机电系统的协同逻辑均对外可见。

SMEE介绍，该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line与KrF两类主流技术路线。整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统，均实现全链条自主可控。

技术路线与制程定位

两条技术路线对应不同的成熟制程需求。I-line采用365纳米紫外光源，KrF则采用248纳米准分子激光光源。

据SMEE官网及公开信息，SSC800系列KrF扫描投影光刻机面向110nm及以上制程，重点服务高性能计算、高密度存储（DRAM/NAND）、微处理器及Micro LED等领域；SSB800系列I-line光刻机面向280nm及以上工艺，主要应用于功率半导体、模拟集成电路和MEMS等成熟制程。

在售的SSC800与SSB800机型均基于自研双工件台平台，搭载国产自主大NA物镜。SMEE称，SSC800整体性能跻身行业第一梯队，关键曝光成像指标对标国际标杆；国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度与生产效率紧密追赶国际标杆。

产业化数据：国产化率与产线验证

比模型展示更具实质意义的是量产数据。SMEE披露，基于全栈自主可控技术底座，两款机型关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产，填补国内空白。

产线验证方面，多台设备已在中国国内头部逻辑与存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。

SMEE成立于2002年，是中国国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。

产业语境：成熟制程的自主供给

此次展示的定位需要放在产业语境中理解。前道光刻设备分为多个层级：I-line与KrF属于深紫外（DUV）范畴，服务成熟制程；更高端的ArF干式与浸没式方案，以及EUV光刻，仍由少数国际厂商主导。SMEE此次展示的SSC800与SSB800，瞄准的是成熟制程的国产化替代，而非先进制程的突破。

这一区间的产业意义在于供给安全。中国国内逻辑与存储产线对成熟制程光刻设备的需求量大且持续，设备国产化率与产线运行数据的披露，为评估国产前道光刻装备的实际交付能力提供了可量化的参照。与此同时，本届进博会上荷兰ASML未参展，也为国产设备的集中展示留出了空间。