Myrias Optics 推出全无机纳米压印工艺，最高实现 2.6 折射率超构光学器件

Myrias Optics开创了全无机超构光学器件制造的先河，产品应用于增强现实、消费电子、工业、汽车和数据通信基础设施领域。

该公司以美国马萨诸塞大学阿默斯特分校的研究为基础，总部位于马萨诸塞州阿默斯特市。Myrias 已筹集了 750 万美元的总资金，其中包括 600 万美元的稀释性资本和来自美国国家科学基金会的 150 万美元的非稀释性奖励。

近日，Myrias Optics首席执行官John Fijol接受媒体采访时谈到了Myrias Optics全无机超构光学平台背后的核心创新。他指出，这项核心创新是一种全无机纳米压印光刻（NIL）工艺，它结合了增材制造的成本结构和通过减材多步工艺制备的蚀刻全无机波导的性能。

目前，增材纳米压印工艺主要基于聚合物/纳米颗粒复合材料，这些复合材料存在光学和机械稳定性问题，且折射率仅限于1.9或更低。Myrias公司提出的方法摒弃了传统纳米压印配方中使用的聚合物粘合剂，转而采用含有无机粘合剂的高折射率纳米颗粒分散体作为压印材料。

Myrias公司用于全无机材料的这些“油墨”通常基于TiO₂或ZrO₂纳米晶体，可紫外光固化，并可使用传统设备旋涂到光学基底上。图案化完成后，通过简单的低温后处理步骤去除所有痕量有机物，即可制成全无机波导或超构光学器件。  

Myrias 工艺采用与现有聚合物/纳米颗粒复合材料相同的 NIL 制造工具，并显著加快了加工速度，在相同的已安装资本基础上提高了产量。 

我们的 Myrias 材料经压印后，折射率可达 1.95。可选的原子层沉积步骤可填充纳米颗粒之间的纳米级间隙，并可在不到 25 个 ALD 循环内将光栅结构或超构光学器件的折射率调节至 2.3，这经济有效且成本增加不大。

较大的折射率能够为增透波导提供更宽的视场角（FoV），并为压印超构光学器件带来卓越的效率。原子层沉积（ALD）调谐技术的优势之一在于能够精确调节波导的折射率，使其与光学衬底的折射率完全匹配，从而实现光栅与波导之间近乎零的折射率差，使得界面在光学上几乎消失。

Myrias公司生产的折射率为1.9-2.3的超材料，其波导传播损耗极低，纵横比最高可达12，适用于超构光学器件。该超材料工艺和配方现已准备就绪，并在全规模生产流程中得到验证。折射率为2.5和2.6的超材料工艺和配方正在研发中。Myrias公司预计将于今年晚些时候提供折射率为2.5的超材料样品，折射率为2.6的超材料样品也将随后推出。

目前，折射率最高可达 2.3 的工艺就绪解决方案，以及即将推出的折射率最高可达 2.6 的解决方案，对于 AR 波导而言具有变革性意义，并且代表了 AR 智能眼镜高折射率、高视场角波导最具可扩展性和经济可行性的解决方案。

对于高折射率氧化物（折射率高达 2.3），蚀刻工艺难度大且成本高昂；而对于碳化硅衬底（折射率 2.6），由于碳化硅蚀刻成本极高且成品率低，蚀刻工艺在经济上也不可行。Myrias 方法为这些产品世代提供了一种无缝且经济高效的解决方案，是必然的制造路径。

下一个里程碑

那么，在接下来的几个月里，显示器行业应该关注哪些里程碑呢？

Fijol列举了一些例子。有几个里程碑事件将决定AR波导制造难题是否真正得到解决：

• 折射率 2.6 波导发布（2026 年第二季度至第三季度）：我们将发布折射率为 2.6 的全无机纳米压印光刻 (NIL) 波导的材料和工艺，这是目前业内所有 NIL 工艺所能达到的最高折射率。随着碳化硅(SiC)工艺的经济可行性提高，该波导将确保 NIL 制造技术在增透波导领域的未来应用，它既能提供与直接蚀刻工艺相当的性能，又能保留 NIL 工艺的成本和可扩展性优势。
• 生产规模扩展至 300 毫米晶圆和 310 毫米面板（2026 年年中）：随着行业计划扩大产能，NIL 制造规模能否满足市场需求至关重要。Myrias 的全无机压印技术已具备 200 毫米晶圆的生产能力。我们将在第三季度发布 300 毫米晶圆生产试验数据，并在年底前发布 310 毫米方形面板的生产试验数据。 
• OEM整合里程碑（2026年下半年至2027年上半年）：将我们现有的顶级OEM厂商、制造合作伙伴以及通过显示周和其他渠道接触到的其他合作伙伴转化为积极的技术整合项目。业界应密切关注已公布的合作关系和联合开发协议。
• A 轮融资完成（目标 2026 年第三季度）：我们的融资将支持从原型到生产的规模化，包括扩展到 300 毫米晶圆产能和团队增长，以支持我们已经建立的客户渠道。
• 白皮书第 2 部分（2026 年第三季度）：我们与 Chris Chinnock 合作的 Insight Media 系列的第二部分将更详细地介绍制造业经济和产量数据，为行业提供透明的基准。

业界应密切关注融合信号：当多家一级原始设备制造商 (OEM) 同时承诺采用特定的消费类产品波导制造工艺时。我们认为融合即将到来，而第二类全无机纳米压印光刻 (NIL) 工艺有望成为融合的核心。