双光子光刻（TPL）在光学制造和光子封装领域的需求增加，Nanoscribe扩大光刻胶产能

工业客户日益增长的需求促使Nanoscribe扩大了其五种最常用光敏树脂的生产能力：IP-Dip2、IP-S、IPX-Q、IPX-S 和 IPX-Clear。

2026年6月2日，这家总部位于卡尔斯鲁厄的公司是双光子聚合（2PP）增材制造领域的先驱表示，目前所有五种材料均已达到工业级质量标准。树脂名称、化学成分、处理流程和打印参数均保持不变，从而保障了现有用户的使用体验。

此举反映了Nanoscribe客户群的更广泛转变。到2025年，该公司售出的系统中，每三套就有一套销往工业买家，其中光学制造和光子封装被确定为主要增长领域。主要驱动因素包括用于光子封装应用的对准式3D微打印技术，例如芯片上的光耦合器接口、芯片边缘、光纤、光纤阵列和晶圆。Nanoscribe的Quantum X系统能够制造光学级表面，对准精度高达100纳米，使其成为低损耗光互连和光束整形组件生产的关键工具。

The Nanoscribe Quantum X align

“这五种关键光敏树脂已广泛应用于各种应用领域和市场，”Nanoscribe材料部负责人Alexander Quick博士表示，“我们对扩大生产能力的投资，旨在确保工业级材料的质量，同时保持材料性能和现有客户工作流程的顺畅。这将使学术界和工业界的客户都受益。”

为进一步支持生产环境，Nanoscribe现为五种升级后的树脂提供批次专属的分析证书（CoA）。每份证书均由独立的外部服务提供商出具，记录了测量的材料数据以及对特定标准的符合性。 

该文档适用于需要在采购、来料检验或内部质量管理流程中进行批次级追溯的客户。

“随着越来越多的客户将基于 2PP 的微加工技术投入生产，获取特定批次的材料记录变得越来越重要，”Nanoscribe 的产品经理 Jan Szabados 博士解释说。

“我们的分析证书基于独立的外部测量，可在需要时提供可靠的证明文件。”

增强的制造工艺和 CoA 可用性适用于 IP-Dip2、IP-S、IPX-Q、IPX-S 和IPX-Clear。

文章来源：Nanoscribe官网