新凯来订单达100亿元，拉动供应商增长，但光刻机缺口依然存在

中国半导体设备制造商新凯来（SiCarrier）已获得超过100亿元人民币的订单，并正在动员上游供应商进行大规模生产。这家总部位于深圳的公司拥有近2万名员工，在全球出口限制收紧的背景下，正成为中国推动芯片制造设备国产化的关键力量。

图片来源：CSEAC 2025

扩大客户群和增长目标

新凯来的客户已包括深圳鹏芯微、中芯国际、上海华虹和长江存储等中国领先芯片制造商，这些制造商都是中国推动半导体自给自足的核心。

供应链合作伙伴表示，新凯来将在2026年扩大产能，尤其是在先进制程设备领域，预计订单量将大幅增长。据界面新闻报道，新凯来预计2025年营收将达到45亿元人民币，2026年将增至75亿元人民币，2028年将达到169亿元人民币。预计2027年将实现盈利，盈利20亿元人民币，与计划中的IPO保持一致。

短短三年，新凯来的估值已飙升至650亿元人民币。在上海举行的2025中国电子信息博览会上，该公司拒绝接受媒体采访，进一步印证了其“保密”的名声。

企业来源及背后的支持者

新凯来的崛起，根植于国家力量的支持。2022年，深圳国有资本投入数千亿元，打造完全国产化的半导体设备产业链，而新凯来则被定位为核心支柱。

该公司起源于华为2012年成立的星光工程实验室，该实验室曾专注于精密设备的研发。2022年，其数千名工程师从华为分离出来，成立了新凯来（SiCarrier）独立运营的公司。

深圳还资助了新的晶圆厂——鹏芯微（先进工艺）、鹏新旭（成熟节点）和昇维旭(内存)——以巩固中国电子和汽车行业的半导体供应。

新凯来还在上海建立了一个测试工厂，以加速国产元器件的认证。

供应商正在加紧努力

新凯来的庞大订单量正促使上游供应商采取积极行动。

● 深圳利和兴股份有限公司的高管估计，鉴于半导体设备毛利率约为50%，采购和零部件采购将投入约50亿元人民币。由于精密零部件约占设备价值的30%，如果利和兴获得一半的份额，即可获利7亿至8亿元人民币。该公司计划筹集数亿元人民币用于扩大研发和生产，可能通过收购的方式进行。

● 真空电容器供应商昆山国力电子科技股份有限公司表示，新凯来的工程师已多次上门检查良率。该公司预计新凯来将在未来的量产中完全取代进口元件。

在 SEMICON China 2025 上，新凯来推出了五大设备：外延沉积（EPI，峨眉山）、原子层沉积（ALD，阿里山）、物理气相沉积（PVD，普陀山）、刻蚀（ETCH，武夷山）和化学气相沉积（CVD，长白山）。分析师认为，此次亮相是一次大胆尝试，旨在整合北方华创(NAURA)、中微公司(AMEC)、中科飞测(SKYVERSE)、拓荆科技(Piotech)的优势。

光刻：最薄弱的环节

尽管发展势头迅猛，新凯来却因其在光刻技术方面的困境而备受关注——光刻技术是先进芯片制造的核心瓶颈。与首次亮相 SEMICON 不同，该公司在本次展会上并未展示任何光刻工具。

光刻技术对中国企业来说仍是一个重大差距，并列举了三个核心障碍：

◉ 光学：ASML 的 EUV 机器使用蔡司镜片，

◉ 运动控制：EUV 系统需要皮米级的同步。中国平台在热应力下仍会出现 3 纳米以上的波动，而 ASML 的波动仅为 0.3 纳米。

◉ 材料：中国拥有ArF光刻胶，但用于HKMG工艺的先进树脂在分子精度方面落后于日本信越公司±15%。超纯化学品（<1ppb）的供应链尚不完善。

新凯来正在试验一种分布式光刻架构，利用非相干光和多镜干涉技术将曝光分解成多个模块化阶段，以规避 ASML 的专利。支持者表示，这种“乐高式”方法可以实现从 28 纳米到 14 纳米的逐步扩展，并促进与其他中国设备制造商的合作。

然而，分析师警告称，如果没有光学、运动和材料方面的突破，模块化设计可能只能起到权宜之计的作用。要实现2030年7纳米国产光刻系统的目标，需要在37个子系统方面取得进展，包括精密计量。

前景

新凯来的发展轨迹凸显了中国发展国产芯片制造设备生态系统的紧迫性。其庞大的订单、政府主导的扩张以及供应商的积极动员，凸显了其战略地位。

然而，疑虑依然存在：尽管沉积、蚀刻和真空系统正在不断进步，但光刻技术仍然是中国的致命弱点。观察人士强调，与ASML的差距是以代际而非年限来衡量的。