海德堡仪器提升 DWL 66+ 光刻系统性能，实现市场领先的 200 纳米分辨率和 65,536 级灰度

德国海德堡讯 – 海德堡仪器公司（Heidelberg Instruments）对其著名的 DWL 66+ 直写光刻系统进行了重大的性能升级，巩固了其作为微加工领域顶级研究工具的地位。该系统现可提供市场领先的最小特征尺寸 200 纳米，以及具备 65,536 级的先进灰度能力，使研究人员能够在不同维度上突破创新的边界。

全新的高分辨率模式“Write Mode XR”实现了分辨率、质量和速度无与伦比的结合。其 200 纳米的最小特征加工能力，使得制造高度复杂的微米和纳米结构成为可能，从而支持量子器件、光学和光子学等应用领域，这些领域以往需要更耗时的电子束光刻技术。这一进步加速了开发周期，并释放了成本高昂的电子束系统去执行其要求最苛刻的任务。

与高分辨率相辅相成的是该系统专业级的灰度光刻技术。凭借前所未有的 65,536 级强度控制，DWL 66+ 能够创建复杂的 2.5D 微结构（例如微透镜和其他微光学器件），在厚度高达 150 微米的光刻胶中实现出色的表面光滑度。

历经 30 年的持续发展和超过 400 套系统的安装，DWL 66+ 已成为一个久经验证、坚固耐用且极其灵活的研发和快速原型制作平台。这些最新的增强功能进一步提升了其价值，为用户提供了超高分辨率和操作灵活性的强大组合。

关于海德堡仪器微技术有限公司 (Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH):
海德堡仪器公司拥有超过 40 年的经验，在全球 50 多个国家安装的设备超过 1,500 套，是设计、开发和生产高精度激光光刻系统、无掩模光刻机和纳米加工系统的全球领导者，提供从台式工具到高端光掩模制造设备的解决方案。其多功能系统支持广泛的微米和纳米尺度表面结构加工，包括二维（2D）图案化以及通过灰度光刻创建 2.5D 特征。凭借其灵活性，这些系统成为全球顶尖大学、研发机构以及工业生产设施的宝贵资产。典型的应用领域包括微光学与光子学、电子与传感器、半导体与先进封装、下一代显示器制造、量子器件、MEMS、微流控、二维材料、光掩模生产以及许多其他领域。

来源：Heidelberg Instruments