主要特长

对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面双面（单面）曝光机。也适合小批量生产。可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。对应***尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配

主要规格