紫外激光直写光刻系统 无掩膜

激光直写设备主要用于无掩膜直接曝光转移微结构图案，以制备衍射光学元件、微机电系统。用于涂有光刻胶体的各种基板在(比如玻璃、硅片或其它平面材料)进行无掩膜直接曝光，将作为衍射光学元件、微机电系统加工平台设备。