阴影蒙版

阴影蒙版

阴影掩模是用于 PVD 工艺（溅射技术、气相沉积技术）的微孔薄膜。

例如，阴影遮罩用于将金属电极应用于塑料、玻璃或陶瓷制成的组件。氧化绝缘结构也可以在 PVD 工艺中使用阴影掩模进行应用。

批量生产中的阴影遮罩

作为批量生产商，temicon 通过电流生产满足精度和结构分辨率的最高标准。

我们的阴影蒙版以其垂直、无毛刺的边缘和低粗糙度而著称。镍阴影掩模也可以磁性固定在基板上，从而确保全表面接触。

丝网印刷应用和 PVD/CVD 工艺模板

用于 PVD 工艺的大表面气相沉积掩膜

阴影蒙版