全幅高精度紫外纳米压印设备

GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。

GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm  & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，可实现200/300mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。

该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。

GL8/12 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。

主要功能

• 经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印
• CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性
  
• 设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本
  
• 自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预
  
• 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料
  
• 标配设备内部洁净环境与除静电装置
  
• 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平

相关参数