高性能无掩膜光刻设备

UV-Ultra是一款专为高端和工业级应用而设计的高性能无掩膜光刻设备。它采用先进的超高速加工方式，采用自研算法和高性能硬件，实现更高的对准、拼接和套刻精度。具备高直写速度和高分辨率，适用于快速、精准的加工需求。MN-UV-Ultra采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适用于高达12英寸的基材。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。

主要特点：

- 适用于大规模生产和工业级应用

- 从纳米级到十微米级多种加工模式，实现更高的加工精度与速度

- 快速和简单的对准程序，实现2D/2.5D微纳结构加工

- 加工图案预览功能和对准误差补偿

- 加工面自动平整和自动聚焦，保证加工一致性

- 灰度曝光

- 无拼缝加工

- 全自动化的可视控制系统与图形化编程语言的应用，显著提升设备调控的灵活性与自主性

- 自研算法和高性能硬件，实现更高的对准、拼接和套刻精度

- 长时稳定性控制系统，保证加工稳定性与一致性

- 更大的加工区域，适用不同尺寸基材，提供自动化样品吸盘夹具

- 更高的扩展性，可选多种选配模块，快速升级服务

如需设备参数，请致电400-000-0910