嘉庚创新实验室

超厚材料制备   超厚（30μm级）二氧化硅薄膜在常规半导体器件中较为罕见，但在一些特殊应用场景中利用其高绝缘性、化学稳定性、机械支撑能力和三维结构填充能力具有独特价值。实验室工程师针对目前电感耦合等离子体增强型化学气相沉积系统（PECVD）超厚材料生长工艺进行了相应的技术能力开发，通过分段沉积、多次调节样品沉积角度、脉冲时间等参数，成功在8英寸晶圆上实现厚度为30μm、均匀性＜5%的二氧化硅薄膜材料。日后可更好服务MEMS芯片、光电子与集成光学领域。

高纯度单色滤光片制备   滤光片是一种利用薄膜干涉、材料吸收或散射等机制，选择性透射、反射或吸收特定波长光的光学元件。实验室工程师针对目前结构色滤光片制备过程中材料薄膜厚度控制精度较差问题进行相应的工艺优化，利用电子束蒸发薄膜沉积系统、电感耦合等离子体增强型化学气相沉积系统和光谱椭偏仪，通过光谱椭偏仪测得实际薄膜厚度并不断优化电子束蒸发薄膜沉积系统、电感耦合等离子体增强型化学气相沉积系统各项工艺参数，成功将电子束蒸发薄膜沉积系统误差范围从±3nm优化至±1nm、电感耦合等离子体增强型化学气相沉积系统误差范围从±7nm优化至±3nm，从而实现了高纯度单色滤光片的制备。该工艺的优化可更好服务二元光学器件、MEMS芯片等领域，有效拓宽平台的服务领域。

 双光子光刻制备微透镜阵列   实验室工程师利用微纳加工平台双光子光刻系统（Nanoscribe Photonic Professional GT2），通过合理选择写头、调整曝光时间等参数，成功在衬底上制备球面半径20μm的微透镜结构阵列，其制备工艺相较传统光刻技术缩短了3倍流程时间。该技术的开发为平面二元光学器件（如超表面全息元件、光束整形器件）的小批量化制备提供了新方案，使平台加工能力从传统微电子领域延伸至光子集成电路、AR/VR光学模组等新兴领域。